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MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING SCISCIE

半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)

1369-8001

工程技術(shù)

Bimonthly

No

1873-4081

MAT SCI SEMICON PROC

455

ENGLAND

http://www.elsevier.com/wps/find/journaldescription.cws_home/600849/description#description

約1.7個月審稿時間

3區(qū)中科院分區(qū)

約88.33%平均錄用比例

2.722影響因子

工程:電子與電氣小學(xué)科

月期刊平臺服務(wù)過的文章錄用時間為1-3個月,依據(jù)20年經(jīng)驗,經(jīng)月期刊專家預(yù)審?fù)ㄟ^后的文章,投稿通過率100%以上!
SCI三劍客

中文簡介

半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)為討論光電子、傳感器、探測器、生物技術(shù)和綠色能源的功能材料和器件的新加工、應(yīng)用和理論研究提供了一個獨特的論壇。每一期將致力于提供當(dāng)前的快照的見解、新成果,突破和未來趨勢等不同領(lǐng)域的微電子、能源轉(zhuǎn)換和存儲、通信、生物技術(shù)(圖)催化、納米薄膜技術(shù),混合和復(fù)合材料、化學(xué)處理、氣相沉積、設(shè)備制造、和造型的支柱先進半導(dǎo)體加工和應(yīng)用。覆蓋范圍將包括:用于亞微米設(shè)備的先進光刻技術(shù);蝕刻及相關(guān)課題;離子注入;損害演化及其相關(guān)問題;等離子體和熱CVD;快速熱處理;先進的金屬化和互連方案;介質(zhì)層薄,氧化;溶膠-凝膠法加工;化學(xué)浴和(電)化學(xué)沉積;化合物半導(dǎo)體加工;新型非氧化物材料及其應(yīng)用(宏觀)分子和雜化材料;分子動力學(xué)、從頭算方法、蒙特卡羅方法等;分立電路和集成電路的新材料和新工藝;磁性材料和自旋電子學(xué);異質(zhì)結(jié)構(gòu)和量子器件;半導(dǎo)體光電特性工程;晶體生長機制;可靠性,缺陷密度,固有雜質(zhì)和缺陷。

http://ees.elsevier.com/mssp/

英文簡介

Materials Science in Semiconductor Processing provides a unique forum for the discussion of novel processing, applications and theoretical studies of functional materials and devices for (opto)electronics, sensors, detectors, biotechnology and green energy.Each issue will aim to provide a snapshot of current insights, new achievements, breakthroughs and future trends in such diverse fields as microelectronics, energy conversion and storage, communications, biotechnology, (photo)catalysis, nano- and thin-film technology, hybrid and composite materials, chemical processing, vapor-phase deposition, device fabrication, and modelling, which are the backbone of advanced semiconductor processing and applications.Coverage will include: advanced lithography for submicron devices; etching and related topics; ion implantation; damage evolution and related issues; plasma and thermal CVD; rapid thermal processing; advanced metallization and interconnect schemes; thin dielectric layers, oxidation; sol-gel processing; chemical bath and (electro)chemical deposition; compound semiconductor processing; new non-oxide materials and their applications; (macro)molecular and hybrid materials; molecular dynamics, ab-initio methods, Monte Carlo, etc.; new materials and processes for discrete and integrated circuits; magnetic materials and spintronics; heterostructures and quantum devices; engineering of the electrical and optical properties of semiconductors; crystal growth mechanisms; reliability, defect density, intrinsic impurities and defects.

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新升級版)

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JCR分區(qū)

JCR分區(qū)等級 JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
Q2 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q2 4.644
PHYSICS, APPLIED Q2
PHYSICS, CONDENSED MATTER Q2
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q2

CiteScore數(shù)值

CiteScore SJR SNIP 學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
6.70 0.687 1.062 大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q1 84 / 601

86%

大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials Q1 57 / 384

85%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q1 68 / 415

83%

大類:Engineering 小類:General Materials Science Q1 100 / 455

78%

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常見問題
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影響因子趨勢圖

H-index

影響因子 h-index Gold OA文章占比 研究類文章占比 OA開放訪問 平均審稿速度
4.644 49 1.53% 98.85% 未開放 約1.7個月

自引率趨勢圖

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