0018-9383
工程技術
Monthly
No
1557-9646
IEEE T ELECTRON DEV
759
UNITED STATES
http://ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=16
約4.7個月審稿時間
3區(qū)中科院分區(qū)
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工程:電子與電氣小學科
IEEE《電子器件學報》發(fā)表了有關電子和離子集成電路器件和互連的理論、建模、設計、性能和可靠性方面的原創(chuàng)和重大貢獻。
https://mc.manuscriptcentral.com/ted
IEEE Transactions on Electron Devices publishes original and significant contributions relating to the theory, modeling, design, performance and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects.
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術 | 2區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
JCR分區(qū)等級 | JCR所屬學科 | 分區(qū) | 影響因子 |
Q2 | PHYSICS, APPLIED | Q2 | 3.221 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | Q2 |
CiteScore | SJR | SNIP | 學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
5.30 | 0.695 | 1.364 | 大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 183 / 708 |
74% |
大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 69 / 259 |
73% |
影響因子 | h-index | Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | OA開放訪問 | 平均審稿速度 |
3.221 | 165 | 2.78% | 99.65% | 未開放 | 約4.7個月 |
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